闪存的特点闪存是非易失存储器掉电了数据也不会丢失但是闪存不能够覆写必须按块擦除按页写入。闪存的基本单元闪存的基本单元是Cell一种类Nmos的双层浮栅MOS管MOS管首先理解什么是MOS管(金属栅极-氧化物绝缘层-半导体沟道)工作原理栅极作为控制端栅极不加电压P型基底里面没有导电通道漏极和源极断开当栅极加正电压电场穿过绝缘氧化层把底下的电子吸上来形成N沟道断电瞬间电压消失电场消失吸上来的电子消去沟道消失数据页消失了所以具有易失性。Flash属于非易失型的半导体使用的是双层浮栅MOS管双层浮栅MOS管控制栅极绝缘层浮栅极绝缘层半导体基底工作原理读入在栅极加极高的正向电压20V强大的电场把基底沟道里的电子强行拽起来穿过薄薄的底部氧化层塞进浮栅极里。即便撤掉高压由于有两层氧化层电子跑不出来数据不会发生改变。浮栅极里面有电子时表现为0读取也就是检查浮栅极中是否存在电子可以在控制栅极加一个中等正电压如果浮栅极中有电子电子的排斥力会抵消控制栅极的电压吸引力无法在基底吸出沟道源极和漏极断开此时能读出“0”若浮栅极中无电子则控制栅极的中等正电压能成功在基底吸出一条沟道源极和漏极导通系统读出“1”擦除在控制栅极加极高的反向负电压或者在基底加极高的正向高电压反向电场直接把电子从浮栅极中吸到基底数据消除系统读出“1”.SLCMLC和TLC名词解释bit又称为位两位的话是4个状态。存储单元一个存储单元可以称为Cell是一种双层浮栅型MOS管一个存储单元存储1bit数据的闪存叫做SLC存储2bit的数据为MLC存储3bit的数据为TLC对于SLC来说一个存储单元存储两种状态当浮栅极中电子多于某个参考值的时候我们把它采样为0否则采样为1SLC电压分布的分析如上图这是一个SLC一个存储单元存储两个状态(1bit数据量)也就是“0”和“1”横轴是阈值电压大小纵轴是存储单元的数量中间的竖线是区分“0”和“1”的阈值电压这个正态分布的线就是指采样在对应阈值电压范围的Cell数量。从底层来分析SLC怎么进行采样根据浮栅极的电子数量进行采样。显而易见当栅极施加正向的大电压时会大量吸引电子进入浮栅极(充电)在达到某个参考值的时候就可以采样为“0”否则判为“1”所以SLC采样电压落在1范围内就认为是1落在0范围内就认为是0两个正态分布无论是采样为0的还是采样为1的都显示为正态分布其中在“山峰处”的Cell最不容易发生位翻转在“山脚处”采样可能出现位翻转原因主要是在长期的使用过程中Cell会出现电荷泄漏的情况导致自身的阈值电压偏移从而从“0”翻转为“1”。尤其是在区分“0”和“1”阈值电压处也就是“两个山脚交界处”本来该阈值电压是3v时间久了这个阈值电压下降到了2.5v使用2.7v电压去读本应读到“0”实际上会读到“1”就发生了位翻转。这也是需要ECC纠错的原因。MLC和TLC的原理MLC若是存储单元存储4个状态(2bit数据)区分不同的状态使用了3个阈值电压线总之就是一个存储单元表示的状态越多那表现的数据量就越多也就有了更大的存储空间。同理TLC若是一个存储单元有8个状态可存储的数据量跟你更多(3bit数据)。优缺点分析1.一个存储单元划分的阈值电压越多在擦写读数据的时候控制进入浮栅极的电子个数越精细所以耗费的时间越长所以在性能上SLCMLCTLC2.在同样面积的Die上闪存容量TLCMLCSLC3.根据上方三张图会发现SLC处于山丘的可能性更大也就是采样准确率更高。TLC采样失误率更高。SLC、MLC、TLC参数比较上述图片取自深入浅出SSD 固态存储核心技术、 原理与实战