最新真空泵配备专利吹扫注入系统
普发真空Fab解决方案Pfeiffer VacuumFab Solutions隶属于 Busch 集团已推出 UltiDry 多级罗茨真空泵。这款新泵专为要求严苛的半导体应用而设计旨在抵御腐蚀性气体、具有侵蚀性的副产物以及大量的粉末负载。其无油、多级压缩技术确保了洁净、干燥的真空生成且不会造成污染使其适用于 CVD化学气相沉积、ALD原子层沉积和 PVD物理气相沉积等工艺。UltiDry 的一项关键创新是其专利的吹扫注入系统patented purge injection system该系统旨在通过冲洗掉粉末等污染物来保护真空泵。据该公司称这一功能即使在粉末密集的工艺中也能确保稳定的性能和顺畅的运行。能源消耗是半导体晶圆厂的主要成本因素。凭借其优化的多级罗茨设计UltiDry 据称相比同类其他真空泵可节省高达87%的能源。该真空泵可在50°C 至 270°C的热范围内可靠运行能够灵活适应不同的工艺要求。这使得它既适用于对温度敏感的涂层工艺也适用于腐蚀性半导体应用。永霖光电-UVSIS-UVLED紫外线应用专家-独家发布
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